正文卷 第276章 向光刻机开刀!
于是在2004年1月17日的时候,双方正式在夏科院总部的超大型会议厅中召开了新闻发布会。 面对夏科院与曙光科技举行的联合发布会,国内国外的记者自然是感到了有大事发生。 于是在发布会正式举行之前,现场的记者们全都一脸激动地讨论着接下来将会发布些什么新闻。 “这次曙光科技竟然和夏科院举行联合发布会,总感觉这次会闹出震撼全世界的大新闻啊。” 此时说话的是一个戴着眼镜,有着许多胡扎的青年记者。 对此现场一个年轻的女记者,也是一脸激动地说道: “我也有这样的感觉,毕竟别的不说,这可是夏科院啊。 夏科院是我大夏高端智力汇集的场所,大夏高端研发力量集合体,此时夏科院与曙光科技合作肯定是不一般的合作。 所以这次绝对有大新闻,看来能获得一个头条大新闻了。” 面对那女记者的话语,现场其他记者也是点点头,随后眼露期待之色。 毕竟做记者的谁不希望能采访到那种头条级别的大新闻呢。 这时门外传来一阵骚乱。 对此,记者们瞬间提起了精神,然后看向门口的方向。 只见外面的林晨正与一个戴着眼镜的老者与一群老人与一个年轻走进了这个超大型会议厅。 “那是夏科院的陆院长,身旁的那几位老人与一个年轻如果不出我所料应该是院士,我以前应该采访过他们的新闻。” 此时说话的是一个四十几岁的中年记者,看他话筒上面那央妈电视台的图标就知道他是著名的央妈记者。 见此,周围的记者们瞬间亢奋起来。 此时夏科院的院长与林晨站在一起,身旁还有几位院士,看样子这次夏科院与曙光科技的合作必定不简单啊。 这大夏院士别看只是个终身荣誉称号,但想要得到这称呼可不容易,因为一年平均也不过能诞生五六十个院士而已。 从建国至今大历年积累并活着的院士也不过几百人,平均下来就是百万分之一的概率,由此可见想要成为院士究竟有多么的困难。 在这种情况下,能成为院士就代表着走到了研发领域的顶点,是无数科研人员毕生所追求的最高目标。 “咔嚓咔嚓咔嚓咔嚓咔嚓……” 在林晨与夏科院陆院长以及几位院士走上舞台的时候,记者们已经按下了手中的相机,将他们走进大门的一幕拍摄了下来。 就这样一路伴随着灯光的闪烁,用了几十秒终于来到了舞台的中央。 “很高兴记者嘉宾们参加这场新闻发布会,这场新闻发布会的内容就是正式对外公布我们夏科院和曙光科技合作的一场新闻发布会。” 此时说话的是夏科院的陆院长,只见此时陆院长停顿了一下后接着说道: “至于这次合作是什么,合作的内容主要就是我们夏科院与曙光科技将会联合成立光刻机研发团队。 共同研发第5代光刻机,也即是ArFi浸没式DUV光刻机! 这第5代光刻机如果研发完成,那么我大夏将会成为世界第二个能生产第5代浸没式光刻机的国度。 也代表着我大夏将会拥有生产90纳米与65纳米芯片的能力。” 面对夏科院陆院长的话语,现场绝大部分记者自然是一脸懵逼。 无他,光刻机这东西的知识实在是太深奥了,没有了解过半导体与了解过光刻机的人自然是对啥是第5代浸没式光刻机并不了解。 浸没式光刻机是当前世界最先进的光刻机,虽然它本质上仍然是AeF干式光刻机,采用的光源波长仍然是193nm。 但193nm光源波长经过水的折射之后,光源波长能降低到134nm,最终拥有更加精细的加工能力。 就像本来一把粗糙的刀口变得更加细小,所以浸没式光刻机技术相当神奇。 堪称能化腐朽为神奇,能用取巧的办法省掉无数功夫,也省下了无数的钱财。 然而面对如此神奇的技术林晨其实并不怎么满意,因为如果光刻机其他零件精度与加工精度乃至零件质量技术能做得好。 那相当于134nm光源波长浸没式光刻机理论上是能加工7纳米制程工艺的芯片,但理论是理论实际是实际。 因为光刻机并不是你将光源波长做到134nm,然后靠着134nm光源波长最小能生产7纳米芯片的能力就能生产7纳米芯片。 光刻机它是一个整体,光刻机一共有数万个精密零件,任何一个零件或系统的不足都会影响最终的光刻精度。 就比如你有一把加工精度达到7纳米级别的激光刻刀,有了它理论上你可以刻画精度达到7纳米级别的艺术品。 但实际当你拿到那激光手术刀后,你会发现刀是好刀,但自己握着激光刻刀的手一直乱抖乱动,根本就控制不了7纳米的雕刻精度。 而且更头疼的是你会发现你的眼睛看不清楚7纳米的东西,就算通过对焦能看清到7纳米的东西, 但如果你的手轻微动一下,那会愤怒地发现自己又看不到7纳米级别的东西了,你需要反复地对焦。 而且最头疼的是就算手不抖了,眼睛也看好了,你会发现你的身体体质其实并不太好。 往往工作一段时间就要休息一下,让人家维修更换身体零件。 而别人呢,能连续工作几年都没啥事,而你往往一两个月就必须检修更换零件,这身子骨对比别人真是相当的弱。 所以就算你有了加工精度达到7纳米的激光手术刀,但你却做不到那样的雕刻精度,一把好刀在你手上蒙尘了。 在这种情况下,这也是浸没式光刻机能做到7纳米级别的理论加工精度。 结果夏科院陆院长却声称能达到90纳米与65纳米芯片的原因。 之所以号称能做到90纳米与65纳米,而不是号称能做到最高7纳米。 这是因为以大夏的材料技术与加工精度最高只能65纳米,更进一步已经没办法了。 想要突破需要大夏的加工精度或材料技术与检测技术全部达标才行,而这也是前世为什么高端光刻机为什么那么难突破的原因。 所以前世高端光刻机那么难突破除了光刻机专利壁垒因素之外,更重要的原因是大夏材料技术与加工精度技术与检测技术不达标。 (本章完)