&nbrf技术会造成更多的线边波动和不规则性？　　 &nbrf技术路线，在ieee的杂志上有，但是无论是尼康还是佳能的工程师发表在上面的论文，都只说了好处没有说缺陷。”林本坚惊讶地问。　　 周新说：“尼康和佳能为了误导竞争对手，故意不谈arf技术路线的缺点。　　 为的就是让竞争对手也踩到这个坑里去。　　 他们已经投入了大笔研发经费到arf技术路线，没有找到办法解决arf光源带来的线边波动和不规则性问题，所以他们认为其他竞争对手也解决不了这个问题。”　　 林本坚默默点头：“没错。　　 就是这样。”　　 周新继续说：“在技术路线上误导竞争对手，这不是集成电路领域的常规操作吗？”　　 &nbrf技术路线的缺陷，是因为他从事这个领域的研究超过二十年，他有大量的人脉。　　 由于保密协议的缘故，他的朋友无法直接告诉他，只能通过暗示的方式，向他透露arf技术路线有重大缺陷。　　 他对此也只是猜测，没有证据的猜测。　　 为什么周新能够说得如此笃定，并且把arf技术路线的缺陷也说得如此清楚。　　 &nbrf技术路线实验的实验室，也就那几家光刻机公司。　　 周新战术喝水之后说：“林伯，我知道你在想什么，我是不是买通了尼康的技术人员，从他们那获得了技术机密。　　 &nbrf技术路线的缺陷，这很容易就推理出来。　　 &nbrf光源的波长为193纳米，相较于krf光源的248纳米波长更短。短波长光源在光刻过程中，显然会受到更严重的散射、衍射和光学近场效应的影响，导致图案传输过程中的线边波动和不规则性增加。　　 &nbrf光源的光刻技术用于更先进的制程节点中，这导致晶圆需要实现更高的分辨率。　　 随着尺寸的缩小，光刻过程中的图案边缘更容易受到光学近场效应、衍射和光刻胶吸收等因素的影响，从而导致线边波动和不规则性。　　 这是基于物理知识的推论。”　　 林本坚鼓掌，“精彩的推演和敏锐的洞察力。　　 当时正明和我说他从燕大找到了天才学生的时候，我还在想到底有多天才，让他那么得意。　　 你在这方面的天赋比我猜测的还要更出色。　　 伱刚刚说的还差了两点。　　 &nbrf光源的波长更容易被光刻胶吸收，这会导致光刻胶的曝光不均匀，进而影响成像质量。所以需要专门针对arf光源设计专门的光刻胶。　　 &nbrf光源设计光刻胶，来减少吸收呢，新光刻胶又很有可能会进一步造成线边波动和不规则性。　　 &nbrf来构建先进制程，会采用多重曝光技术、相位移光掩膜技术和偏振光技术等。　　 这些技术一定程度上又会增加线边波动和不规则性。　　 所以造成线边波动的原因比你猜测的更多。”　　 周新问：“可是有这么多困难，为什么前辈你还是看好arf路线？”　　 &nbrf技术路线，因为林本坚这次在参加光学大会接受采访的时候自己说的。　　 “是帮光刻机公司打掩护吗？”　　 林本坚笑了：“我已经从ibm离职了，ibm这几年也几乎没有在光刻机领域继续投入了。　　 我又没有为尼康或者佳能工作，为什么要帮他们打掩护。　　 我当然是从我内心出发更加看好arf技术路线。　　 &nbrf的缺点，这些缺点只是暂时的。　　 在krf光源代替g线和i线的过程中，同样有很多困难。”　　 g线是436nm波长的光源，i线是365nm波长的光源。　　 “相对于g线和i线，krf需要新的光刻胶和抗反射涂层材料来适应krf光源的特性。　　 同时krf要求更高性能的光学系统和光掩膜材料。当时需要采用更先进的透镜和光学元件，以实现更高的数值孔径和分辨率。　　 此外，光掩膜材料也需要具有更低的散射和吸收特性。　　 krf还需要优化曝光过程，以提高成像质量。我们当时主要采用了双重曝光和离焦曝光技术来降低光刻误差。　　 让我想想，对了，我们当时在研发krf光源的时候还要对控制进行考虑，因为krf实现了更高的分辨率，所以需要更严格的制程控制要求。　　 需要对光刻胶涂覆厚度、曝光剂量、显影过程等参数进行更精确的控制，以保证光刻成像质量和产量。　　 这么多困难，我们照样克服了，最终krf光源代替了g线和i线，成为了今天的最先进的制程光源。　　 同样未来短波长的光源势必然会代替长波长的光源，这是技术进步的必然。　　 我们刚刚讨论的困难只是暂时的困难。”　　 &nbrf上的投入，而不是停止了在arf技术路线上的投入。　　 &nbsml实现弯道超车，也是因为他们选择了正确的技术路线，arf光源以水为介质，在光刻胶上面抹一层水。　　 水的介质折射率是1.44，193纳米÷1.44≈134纳米，arf光源的波长进一步减少了。　　 &nbsml能够干掉尼康和佳能，垄断光刻机领域，他们在技术路线的两个关键节点都做出了正确的选择。　　 应该稳健的时候他们比尼康稳健，从而在光刻机市场站稳了脚跟。　　 应该激进的时候他们比尼康激进，从而占据了高端市场，把高额利润全部吃掉了，后续一直保持住了技术领先。　　 &nbrf技术路线突破之后，arf的波长是193nm，他最多能够制造65nm的芯片。　　 如果要制造40nm制程以下的芯片，需要找到160nm以下的光源。　　 尼康和佳能等企业选择的是157nm的f2激光，而asml找到了光源做介质直接一步到位了。　　 当然没有加一层水那么简单。　　 &nbrf技术路线一直认为是有办法解决的。　　 &nbrf光源设计对应的光刻胶，其次是研发抗反射涂层，然后是改进光刻机的光学系统，找蔡司定制更先进的透镜。　　 来实现更高的数值孔径和分辨率。　　 同时在曝光过程中进行优化。我专门针对arf光源设计了一套分辨率增强技术。　　 包括辅助特征、离轴照明、双曝光技术等，用以改善图案传输质量和提高分辨率。”林本坚很兴奋，难得见到这么懂arf技术的同行。　　 其他懂这玩意的都签了保密协议，林本坚和他们聊的很不尽兴。　　 华国差的不仅仅是光刻机，差的是整个高端制造业，即便能造出光刻机，光学镜头也能卡你脖子。　　 不过蔡司是德意志企业而且没上市，阿美利肯的长臂管辖管不到蔡司。　　 周新听完之后感慨对方不愧是大师级人物，还没有加入台积电已经有完整的计划了。　　 同样一件事，有的人是纸上谈兵，有的人是决胜千里之外。　　 华国价值观以结果为导向，周新知道林本坚未来的成就，更别说林本坚说的这些都是绝对的干货。　　 &nbrf技术路线的未来后，周新问：“林伯，我打算成立一家光刻机公司，我需要真正懂行的人来帮我。　　 你有没有意愿来帮我做事，我给你的职位是研发主观。　　 首批研发资金十亿美元，我给你百分之二十的股份，但是你加入之后需要签竞业协议，同时我们的光刻机公司会放在华国。”　　 林本坚听完前半句话想马上答应下来，十亿美元的研发资金，百分之二十的股份。　　 这是何等的信任，光是十亿美元的研发资金，这家企业也最少值10亿美元。　　 直接就是给你两个亿。　　 听完后半句他心一凉：“newman，我知道你是华国人，希望帮助华国在半导体领域有所发展。　　 我也是华裔，在有能力和有机会的前提下，我同样希望为华国的半导体行业发展进步贡献自己的力量。　　 但是光刻机的研发，非常依赖于和芯片制造厂商之间的合作。　　 华国没有什么成熟的芯片制造厂商，我们把研发基地放在华国，很难有所进展。　　 不管我是否答应你的条件，我都建议你放在弯弯或者阿美利肯。　　 弯弯有台积电，阿美利肯有英特尔的芯片代工厂。　　 在这两个地方，你才有机会把你的产品在生产环境中经过充分的实验。”　　 &nbsml的研发中心遍布全球。　　 周新说：“世大半导体的张汝京在筹备回华国成立芯片代工厂的事情。　　 他们的选址、资金和团队都已经就位了。　　 我们前期筹备阶段和实验室研发阶段，这个时期是不需要和代工厂合作的。　　 我们的进度会比张汝京那边的进度更慢，等到我们的实验室产物研发出来之后，正好可以送到他们那里去进行验证。　　 张汝京的芯片代工厂，刚刚起步的时候我们才有机会进去。　　 无论是台积电、英特尔还是三星，他们都很难给一家新成立的光刻机公司机会。　　 让我们的实验室产物介入他们的生产流程中。　　 反而在我看来，华国才是机会所在，我们需要借助华国的代工厂打出名气，然后才有机会和其他的芯片代工厂合作。　　 这也是农村包围城市的打法。”　　 为什么华国的光刻机是实验室产物，因为没有在生产环境中经过充分验证。　　 &nbsml对华国禁运从某种意义上来说是好事，如果不禁运，华国自主研发的光刻机永远都不会有机会进入到生产流程中。　　 林本坚说：“你要成立的光刻机公司现在有多少人？”　　 周新说：“你是第一个，你负责把研发团队搭建起来，你是研发主管。　　 我会给你完全的信任和自主权。　　 我只会在研发方向上给我的建议和思考。”　　 林本坚听完有点无语，说白了只有钱没有人。　　 “我需要时间来思考。　　 &nbn既然你邀请了我，那么我也不介意把话说得更直接。　　 对于一家光刻机公司来说，十亿美元可能只是前期研发的投入，如果我们不能早点实现盈亏平衡，不能制造出可以进入生产环境的光刻机。　　 那未来需要你不断投入研发费用，或者直接解散公司。　　 因此10亿美元只是入场券，靠产品实现盈亏平衡才代表这家光刻机公司活了下来。　　 其次即便我们成立公司，还是有很多无法绕过的专利需要向尼康、asml、ibm、德州仪器这些公司买，购买专利使用权。　　 我们不可能所有技术都靠自己来研发。　　 当然未来我们研发出来的技术，他们要使用也需要向我们缴纳专利使用费。　　 另外你开的待遇很高，我还是第一次收到这么高待遇的offer。　　 从待遇的角度出发，绝对是能够让我满意的。　　 我成立的林创都快八年时间了，估值连五千万美元都没有。　　 只是我一个人主导这件事，我不确定自己能干好。　　 我其实没有太多管理的经验，我只管理过几个人的研发团队，管理一家光刻机公司的研发团队，这个规模的管理工作我没有做过。　　 负责一家光刻机公司所有研发人员从零开始的团队构建，我就更没有做过了。　　 我担心自己做不好。”　　 周新不担心，林本坚加入台积电之后最高做到了台积电的副总裁。　　 台积电这个体量的公司，副总裁可比他们要成立的光刻机公司要管的人多得多。　　 周新说：“我充分地相信你有这个能力。　　 管几个人和管几十个人，其实差不多，你只需要把主管管好就行。　　 另外我会帮你找一个足够出色的帮手，他会和你一起负责公司的组建和管理。”　　 林本坚好奇问：“谁？我认识吗？正明吗？　　 你劝他也离开伯克利，来和你一起创业吗？　　 正明比我要好一些，思略半导体要比林创更有价值，估值也要高得多。　　 正明现在应该还没有另外再开始管一家公司的念头吧”　　 周新摇头：“不是胡教授，我不知道你认不认识。　　 他是弯弯人，之前在加州那边的半导体公司做模拟ic设计。　　 关建英，你认识吗？”　　 林本坚说：“我好像有点印象，但是肯定不熟，最多是见过。”　　 是的，周新刚得知的消息，老关被人赶出来了。　　 这是补昨天的，今天更了1w，昨天的4k加今天的6k。　　 本来中间一度想摆烂，最终还是咬牙坚持下来了。　　 即便周末，写一万字还是很累。　　 最后求个月票！　　 (本章完)